半導體設備巨頭艾司摩爾(ASML)最新公布的第三季獲利大幅超越市場預期。公司表示，受到人工智慧相關投資規模與週期的推動，部分客戶已經開始表達對2029年甚至2030年關鍵半導體設備的下單意願。執行長富凱（Christophe Fouquet）指出，客戶持續上調中短期的設備需求預測，這項消息無疑為急於評估該公司曝光機長期需求前景的投資人注入了一劑強心針，也印證了其今年以來股價強彈逾56%的強勁動能。

產能吃緊恐延續至2028年，積極尋求擴產解方

艾司摩爾(ASML)是全球唯一生產極紫外光（EUV）曝光機的企業，這是台積電(TSM)等晶圓代工廠製造全球最先進半導體的關鍵設備，因此投資人高度關注其財報，藉此尋找AI晶片需求的風向球。富凱坦言，目前規劃的2027年與2028年產能將無法完全滿足客戶湧現的龐大需求。為此，公司正在積極研究如何進一步擴大2028年的產能，預期將突破先前所預估的30%增幅，以緩解供應鏈的緊繃狀態。

台積電與三星承諾採用新世代設備

在第三季期間，全球兩大晶片製造商台積電(TSM)與三星已承諾採用艾司摩爾(ASML)的新世代高數值孔徑極紫外光（High NA EUV）曝光機，分析師普遍認為這是推動該公司未來成長的關鍵引擎。受惠於強勁需求，公司將全年營收預估收斂至440億至450億歐元之間，同時預估第四季營收將達142億至152億歐元，高標優於分析師預期的142億歐元。回顧第三季表現，雖然營收116.6億歐元略低於預期的117.2億歐元，但淨利高達49.6億歐元，遠勝市場預期的41億歐元。

維持中國市場佔比預期，無懼本土競爭

針對中國市場，這家半導體設備製造商表示，預期來自中國的銷售額將佔總業務的20%，維持先前的預估不變。儘管近期市場傳出有中國本土企業開始製造深紫外光（DUV）曝光機，試圖在供應鏈在地化的趨勢下挑戰歐美的技術主導地位，但艾司摩爾(ASML)在DUV領域依然佔據絕對的統治地位。分析師也對中國能否成功提升其DUV技術產能提出質疑。雖然近年來受到嚴格法規限制，無法向中國銷售EUV及部分高階DUV設備，但公司在先進製程設備的護城河與技術壁壘依然難以撼動。

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